京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86359. Ni-0.3Sn, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Sn. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)GBボイド.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86360. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86360. Ni-0.3Sn, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Sn. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)GBボイド.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86361. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86361. Ni-0.3Sn, JMTR, 350℃, BF, 11K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Sn. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)GBボイド.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86362. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86362. Ni-0.3Sn, JMTR, 350℃, ED., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Sn. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86363. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86363. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 11K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
(備考)汚い. 日付元記載「1992. 10. 23」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86364. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86364. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)小ループ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86365. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86365. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86366. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86366. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86367. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 17K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)17K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86367. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86368. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86368. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86369. JLF-4, JMTR, 200℃, DF, 17K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)17K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86369. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86370. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86370. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, ED., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86371. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86371. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 11K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)日付元記載「1992. 10. 23」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86372. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86372. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86373. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86373. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86374. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86374. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86375. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86375. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86376. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86376. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86377. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86377. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, ED., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86378. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86379. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86380. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K. (反射ベクトルg)転位.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86381. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86382. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86383. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) -8.5ステレオ. 日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86384. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)0ステレオ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86385. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86386. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86387. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86388. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86389. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86390. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1