京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86391. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86392. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86393. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86394. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86395. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86396. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) 0ステレオ. 日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86397. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) -7ステレオ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86398. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86399. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86400. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86401. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86402. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86403. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86404. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86405. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86406. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86407. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86408. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) -5ステレオ. 日付元記載「90. 11. 15」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86409. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) +5ステレオ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86410. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86411. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86412. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86413. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86414. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86415. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86416. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86417. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86418. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86419. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86420. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86421. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86422. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.
(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86423. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
(備考)粒子のところが光にエッチングされている. 日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86424. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86425. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86426. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86427. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86428. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86429. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86430. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86431. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86432. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86433. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86434. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)ループか. 日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86435. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86436. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86437. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86438. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86439. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86440. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1