京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88029. Ni, A863, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni. (試料番号)A863. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88030. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EMをケンマ α 0.0赤4(40).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88031. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88032. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88033. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88034. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88035. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β 7.8赤0.5(609.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88036. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88037. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88038. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)(110) SFT or loop?.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88039. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)以下同じ視野.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88040. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88041. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88042. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88043. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88044. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88045. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EMをケンマ just 2 1/2法.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88046. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)over2.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88047. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)under2.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88048. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88049. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88050. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88051. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88052. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88053. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)near (110)pole.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88054. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88055. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88056. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88057. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EM polishied from EM α +15赤12(220).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88058. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88059. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88060. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88061. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88062. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88063. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88064. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88065. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88066. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β A+7.5赤7(140).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88067. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88068. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88069. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88070. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88071. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C grain変更.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88072. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88073. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88074. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88075. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88076. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88077. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88078. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α -2黒0-3(120).
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1