京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88079. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88080. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88081. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)C α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88082. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88083. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考) α dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88084. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88085. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A β +-0黒6-9(100).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88086. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)D β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88087. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)E β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88088. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)F β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88089. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)F β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88090. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88091. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88092. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B-F.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88093. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88094. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88095. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)β dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88096. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88097. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)A α -11赤6-9(320).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88098. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88099. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88100. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88101. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88102. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88103. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88104. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)A β-5赤15-18(60).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88105. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88106. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88107. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88108. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88109. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88110. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88111. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88112. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)隣のgrain.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88113. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88114. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88115. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88116. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88117. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)A α -31.5黒6-9(220).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88118. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88119. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88120. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88121. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88122. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88123. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)A β-24黒6-9(220).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88124. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88125. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88126. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88127. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88128. Ni-2Cu, A923, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A923. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1