京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88179. Au, JMTR, 160℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Au. (照射条件)JMTR. (照射温度)160℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88180. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
(備考)GB近く A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88181. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88182. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88183. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88184. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88185. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88186. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)just.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88187. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)↷.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88188. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)↶.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88189. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88190. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88191. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88192. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88193. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88194. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88195. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88196. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88197. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88198. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88199. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88200. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88201. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88202. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88203. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88204. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88205. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88206. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88207. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88208. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88209. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88210. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88211. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88212. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88213. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88214. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88215. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88216. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88217. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88218. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88219. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88220. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88221. Ni-2Si, JMTR controlled, DF., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88222. Ni-2Si, JMTR controlled, BD., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88223. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88224. Ni-2Si, JMTR controlled, BD., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88225. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88226. Ni-2Si, JMTR controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88227. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88228. Ni-2Si, JMTR controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1