京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88729. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β s=8g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88730. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β s=9g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88731. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β s=10g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88732. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β s=11g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88733. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β s=12g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88734. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β s=13g 外し足りない ボツ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88735. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β +15黒6(0).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88736. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88737. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88738. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88739. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88740. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88741. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88742. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88743. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88744. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88745. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88746. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88747. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88748. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88749. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88750. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88751. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88752. Ni-2Cu, N131, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)N131. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)(0,0)のとき.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88753. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α-2赤0-3(60).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88754. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88755. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88756. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88757. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88758. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88759. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88760. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β -2赤9-12(240).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88761. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88762. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88763. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88764. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88765. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88766. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88767. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88768. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88769. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, BF, 31K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88770. Ni-2Si, N191, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N191. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α-28.5黒12-15(120).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88771. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88772. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88773. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88774. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 52K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88775. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, ED., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88776. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β -21.5黒6-9(200).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88777. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88778. Ni-2Ge, N221, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1991年2月8日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N221. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1