京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4303. Au, AD210, RTNS-II Abe, RT, S, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Au. (試料番号)AD210. (照射条件)RTNS-II Abe. (照射温度)RT. (照射量)S. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4304. Au, AD210, RTNS-II Abe, RT, S, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Au. (試料番号)AD210. (照射条件)RTNS-II Abe. (照射温度)RT. (照射量)S. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4305. Au, AD210, RTNS-II Abe, RT, S, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Au. (試料番号)AD210. (照射条件)RTNS-II Abe. (照射温度)RT. (照射量)S. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4507. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4508. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4509. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4510. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4511. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4512. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4513. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4514. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, BF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4515. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, BF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4516. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4517. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4518. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4519. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4520. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4521. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4522. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4523. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4524. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, BF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4525. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4526. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4527. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4528. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4529. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4530. Ni, A3, RTNS-II , SS., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4531. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4532. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4533. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4534. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4535. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4536. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4537. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4538. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4539. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4540. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4541. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4542. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4543. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4544. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4545. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4546. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4547. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4548. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4549. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4550. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4551. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4552. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4553. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
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- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1