京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29415. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29416. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29417. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29418. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29419. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, BF., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29420. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, BF, 31K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29421. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, BF, 21K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29422. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29423. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29424. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29425. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29426. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29427. Ni-2Si, G319, RTNS-II, 200℃, SS, BF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)G319. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29428. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29429. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29430. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29431. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29432. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29433. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29434. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29435. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29436. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29437. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29438. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 100K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)void contrast.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29439. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29440. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29441. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29442. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 31K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29443. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 31K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
(備考)以下dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29444. Ni, N312, JMTR, 200℃, DF, 31K., [1986年8月3日以降5日以前.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29445. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 31K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29446. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 80K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29447. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 80K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29448. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29449. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 80K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29450. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 80K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29451. Ni, N312, JMTR, 200℃, BF, 80K., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29452. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29453. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)γ 逆のg 0、黒12(180).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29454. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)γ .
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29455. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)γ .
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29456. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29457. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29458. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29459. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)δ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29460. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)δ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29461. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)δ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29462. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)ε.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29463. Ni, N312, JMTR, 200℃., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
(備考)ε.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-29464. Ni, N312, JMTR, 200℃, ED., [1986年8月3日以降5日以前.], [1986-08-03/1986-08-05.]
(試料)Ni. (試料番号)N312. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1