京都大学複合原子力科学研究所照射材料工学研究分野
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32304. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, DF, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32305. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32306. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, DF, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32307. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, DF, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32308. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, DF, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32309. Cu-2Ge, G613, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-2Ge. (試料番号)G613. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32310. Fe, A267, RTNS-II, BD, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Fe. (EM/D3)EM. (試料番号)A267. (照射条件)RTNS-II. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)52K.
(備考)contamination多い.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32311. Fe, A267, RTNS-II, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Fe. (試料番号)A267. (照射条件)RTNS-II. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32312. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)上8(-)黒9(40).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32313. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32314. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32315. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32316. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32317. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0(4).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32318. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)上1(-)黒8(320).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32319. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32320. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32321. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32322. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32323. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)下3.5(+)赤2(10).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32324. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32325. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32326. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32327. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32328. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32329. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32330. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32331. Cu-0.3Si, G573, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Si. (試料番号)G573. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32332. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
(備考)上1(-)赤10(180).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32333. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32334. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32335. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32336. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32337. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32338. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)下9.5(+)赤13(100).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32339. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32340. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32341. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32342. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32343. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32344. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)上9(-)黒1(60).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32345. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32346. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32347. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32348. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, 100K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32349. Cu-0.3Ge, G633, RTNS-II, 200℃, WW, ED., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Ge. (試料番号)G633. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32350. Cu-0.3Sn, G693, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)G693. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)上10(-)赤9(80).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32351. Cu-0.3Sn, G693, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Sn. (試料番号)G693. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32352. Cu-0.3Sn, G693, RTNS-II, 200℃, WW, 52K., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Sn. (試料番号)G693. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-32353. Cu-0.3Sn, G693, RTNS-II, 200℃, WW., [1968年10月9日.]
(試料)Cu-0.3Sn. (試料番号)G693. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)WW.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1