北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43099. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)a.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43100. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)a.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43101. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)a.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43102. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)a.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43103. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
(備考)a.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43104. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43105. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43106. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43107. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43108. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, ED, 55cm., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43109. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43110. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43111. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43112. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43113. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43114. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43115. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43116. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43117. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, ED, 55cm., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43118. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43119. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43120. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 10K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43121. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43122. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43123. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43124. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)b ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43125. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)b ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43126. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, ED, 55cm., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)b.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43127. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 10K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)転位.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43128. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 10K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)転位.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43129. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)転位 ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43130. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)転位 ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43131. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)転位 ボイド.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43132. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)転位.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43133. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)転位.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43134. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, ED, 55cm., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43135. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43136. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43137. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43138. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43139. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43140. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 200K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)200K.
(備考)」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43141. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43142. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43143. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43144. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
(備考)」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43145. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43146. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43147. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43148. SUS, K247, RTNS-II, 150℃, WW, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) K247. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)150℃. (照射量)WW. (条件・倍率等)100K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16