北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44698. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44699. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)voidいない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44700. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)SFT?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44701. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)SFT?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44702. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)SFT?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44703. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44704. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44705. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44706. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44707. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44708. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44709. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44710. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)すぐ隣.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44711. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44712. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44713. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44714. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44715. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中~大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44716. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44717. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44718. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44719. 2Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K.
(備考)同じGrain.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44720. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44721. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44722. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44723. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44724. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44725. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44726. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44727. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44728. 2Si, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)要再仕上ケンマ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44729. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44730. 2Si, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44731. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44732. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44733. 2Si, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44734. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44735. 2Si, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44736. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44737. 2Si, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44738. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44739. 2Si, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44740. 2Si, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44741. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中~小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44742. 2Si, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中~小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44743. 2Si, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)2Si. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44744. 2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44745. 2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44746. 2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44747. 2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)2Ge. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)voidなし.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16