北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44848. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)st.1(以下48-55).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44849. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44850. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44851. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44852. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44853. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↑ SFT.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44854. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44855. Cu, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.1(以上48-55).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44856. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)st.2(以下56-62).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44857. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44858. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44859. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44860. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44861. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44862. Cu, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.2(以上56-62).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44863. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.2 100ps.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44864. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.2 100ps.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44865. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)st.2 はすす.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44866. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44867. Cu, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44868. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44869. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44870. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小~中.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44871. Cu, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44872. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44873. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小~中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44874. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44875. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44876. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44877. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44878. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中~大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44879. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44880. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s~0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44881. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s少しはずす.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44882. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s更にはずす.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44883. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)77に対応.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44884. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44885. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)on G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44886. Cu-2Si, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Si. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)on G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44887. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)st.1(以下87-94まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44888. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44889. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44890. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44891. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44892. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44893. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↑ SFT?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44894. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.1(以上87-94まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44895. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.2(以下895-902まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44896. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44897. Cu-2Sn, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu-2Sn. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)↓.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16