北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44998. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-44999. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45000. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 15K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)15K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45001. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, BF, 15K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)15K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45002. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45003. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45004. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45005. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45006. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45007. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45008. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45009. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, ED, 55cm., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45010. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45011. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45012. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45013. Ni-2Ge, JMTR controlled, 400℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45014. Ni, JMTR controlled, 200℃, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α(以下14-31まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45015. Ni, JMTR controlled, 200℃, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45016. Ni, JMTR controlled, 200℃, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45017. Ni, JMTR controlled, 200℃, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45018. Ni, JMTR controlled, 200℃, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45019. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45020. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45021. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45022. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45023. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45024. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45025. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45026. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45027. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45028. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45029. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)2-20. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45030. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)2-20. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45031. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)2-20.
(備考)α(以上14-31まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45032. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β(以下32-38まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45033. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45034. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45035. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45036. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45037. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45038. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β(以上32-38まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45039. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45040. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α’(以下40-45まで) (110).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45041. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45042. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45043. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45044. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45045. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0(3.5).
(備考)α’(以上40-45まで) (110).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45046. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β’(以下46-62まで) (110).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45047. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16