北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45048. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45049. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45050. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45051. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0(4).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45052. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45053. Ni, JMTR controlled, 200℃., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45054. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF.
(備考)厚いところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45055. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45056. Ni, JMTR controlled, 200℃, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45057. Ni, JMTR controlled, 200℃, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)20K.
(備考)(220) 範囲不明.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45058. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45059. Ni, JMTR controlled, 200℃, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45060. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45061. Ni, JMTR controlled, 200℃, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45062. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β’(以上46-62まで).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45063. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)Boundary.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45064. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45065. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45066. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45067. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45068. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45069. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45070. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45071. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45072. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45073. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45074. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45075. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED, 55cm., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45076. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45077. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45078. Ni, JMTR controlled, 200℃, DF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45079. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45080. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45081. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45082. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 10K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45083. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45084. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45085. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45086. Ni, JMTR controlled, 200℃, BF, 30K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45087. Ni, JMTR controlled, 200℃, ED, 55cm., [1989年9月1日.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45088. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45089. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45090. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 50K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45091. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45092. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45093. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45094. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 200K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45095. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45096. Cu, JMTR controlled, 200℃, BF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-45097. Cu, JMTR controlled, 200℃, DF, 20K., [1989年9月1日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)内部.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16