北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46587. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46588. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, BF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46589. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46590. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, BF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46591. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46592. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46593. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)SFT?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46594. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 150K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)150K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)SFT 隣へ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46595. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)隣へ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46596. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46597. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46598. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, BF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46599. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46600. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46601. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, BF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46602. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46603. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46604. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46605. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46606. Cu-2Ni, JMTR controlled, 350℃, DF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46607. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46608. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46609. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46610. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46611. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46612. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46613. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46614. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46615. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46616. Cu, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46617. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s大.
(備考)st.1 void or pit GBそばに多い。すぐそばにはいない。 .
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46618. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46619. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46620. Cu, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46621. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s大.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46622. Cu, JMTR controlled, 350℃, DF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46623. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 10K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46624. Cu, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46625. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 5K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46626. Cu, JMTR controlled, 350℃, BF, 5K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)st.2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46627. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46628. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46629. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46630. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46631. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46632. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46633. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46634. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46635. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46636. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s大.
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- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16