北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46637. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46638. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46639. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46640. Cu-2Ge, JMTR controlled, 350℃, ED, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46641. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)90.3.8 ケンマ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46642. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46643. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46644. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46645. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46646. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46647. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46648. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46649. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46650. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46651. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s大.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46652. Cu-2Sn, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-2Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46653. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)2at%Siはもろくなっており、ピンセット.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46654. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, BF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)でつまんだだけで割れてしまった。.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46655. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)EMはかけらを観察したが、D3はケンマ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46656. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 30K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)出来なかった。代わりに0.3at%.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46657. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 50K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46658. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46659. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46660. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46661. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46662. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, DF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)voidではない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46663. Cu-0.3Si, JMTR controlled, 350℃, BF, 100K., [1990年3月8日.]
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)voidではない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46664. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)jst.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46665. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)+1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46666. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)+2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46667. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)+3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46668. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)+4.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46669. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46670. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46671. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46672. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46673. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46674. Ni, RTNS-II, 200℃, SS, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46675. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)すぐ隣.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46676. Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 200K., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46677. Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 200K., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)2g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46678. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)3g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46679. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)4g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46680. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)5g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46681. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)6g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46682. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)7g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46683. Ni, RTNS-II, 200℃, SS, ED., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46684. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)8g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46685. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)9g.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-46686. Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年3月8日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (ブラック条件からのずれs)10g.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16