北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48204. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S.
(備考)奥.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48205. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S.
(備考)傾き変える.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48206. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48207. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S, 5K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S. (条件・倍率等)5K.
(備考)傾き変える.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48208. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48209. Ni, A014, RTNS-II, 290℃, S., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A014. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)S.
(備考)」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48210. Ni, A018, RTNS-II, 290℃, M, BF, 20K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)A018. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)M. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
(備考)loopいない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48211. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48212. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48213. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48214. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48215. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48216. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48217. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48218. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48219. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, ED, 55cm., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)110.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48220. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48221. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48222. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48223. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)ノート読みとれず 多分dislocation.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48224. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48225. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)ノート読みとれず 多分dislocation.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48226. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48227. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 30K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48228. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 30K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48229. Ni-2Sn, 2-12, JMTR, 200℃, BF, 30K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)D3. (試料番号) 2-12. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48231. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)D3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48232. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48233. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48234. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48235. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48236. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48237. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48238. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48239. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48240. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48241. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48242. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, ED., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48243. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48244. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48245. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48246. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48247. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48248. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48249. Ni-2Ge, JMTR, 200℃., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48250. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)Boundary.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48251. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 100K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)Boundary.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48252. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)Boundary.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48253. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 30K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)Boundary.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-48254. Ni-2Ge, JMTR, 200℃, DF, 50K., [1990年6月26日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16