北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8772. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8773. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8774. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8775. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8776. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8777. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8778. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8779. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8780. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8781. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8782. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8783. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8784. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8785. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8786. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8787. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8788. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8789. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8790. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8791. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8792. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8793. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8794. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8795. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8796. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8797. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8798. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8799. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8800. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8801. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8802. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8803. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8804. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8805. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8806. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8807. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8808. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8809. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8810. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8811. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8812. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8813. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8814. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8815. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8816. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8817. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8818. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8819. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8820. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8821. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16