北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80908. NO2, RT, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)RT. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)6分3秒.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80909. NO2, RT, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)RT. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)8分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80910. NO2, RT, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)RT. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)33分4秒 と思う.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80911. NO2, RT, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)RT. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)20分 と思う.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80912. NO2, RT, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)RT. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)59分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80913. NO2, 300℃, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)8分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80914. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)4分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80915. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)2分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80916. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)1分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80917. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)21sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80918. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)41sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80919. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)2min.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80920. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)3min50sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80921. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)9min.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80922. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)途中でやめた.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80923. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)30min18sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80924. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)30min18sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80925. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)63min.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80926. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)析出物付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80927. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)析出物付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80928. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)交差付近. 日付元記載「2/24」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80929. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)↓ 下方向.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80930. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)↓ 下方向.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80931. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)すぐ上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80932. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80933. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80934. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80935. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)3段になっているところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80936. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)単相のところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80937. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80938. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80939. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)すぐ下.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80940. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)下と同じ場所 GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80941. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80942. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80943. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80944. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり前.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80945. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)見える.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80946. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)完全に重なり 見えない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80947. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)半分重なっている所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80948. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)半分重なっている所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80949. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なっていない中間部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80950. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なっていない中間部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80951. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)中央付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80952. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)中央付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80953. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, ED., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80954. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80955. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80956. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, ED., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)200.
(備考)厚さ測定用.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80957. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左の交差部分 」.
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- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16