北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80958. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)試料の重なったところ. 日付元記載「2/24」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80959. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)58と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80960. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80961. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)60と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80962. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80963. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)62の都築少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80964. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)63と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80965. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)62と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80966. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)Boundary付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80967. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)66と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80968. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)Boundary付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80969. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)68と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80970. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80971. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)70の続き 少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80972. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)71と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80973. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)70と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80974. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80975. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)74の続き 少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80976. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)75と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80977. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)74と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80978. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 10K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)10K.
(備考)交差部分右. 日付元記載「2/25」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80979. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80980. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80981. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80982. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80983. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)外.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80984. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80985. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80986. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)外.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80987. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80988. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)100K.
(備考)左.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80989. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)更に.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80990. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80991. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)更に内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80992. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80993. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)左.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80994. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)左奥.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80995. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80996. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)100. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)等圧干渉じま 波うっている.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80997. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)右側重なり部分. 日付元記載「2/26」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80997. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)100. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)重なりのところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80998. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80999. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81000. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81001. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)マスクきずあり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81002. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)交差部分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81003. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81004. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81005. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81006. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)?.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16