北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18628. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18629. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18630. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18631. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18632. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18633. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18634. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18635. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18636. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18637. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18638. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18639. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18640. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18641. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18642. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18643. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18644. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18645. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18646. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18647. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18648. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18649. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18650. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18651. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18652. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18653. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18654. RTNS-II., 1986. 2. 9.
(照射条件)RTNS-II.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18655. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18656. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18657. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18658. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18659. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18660. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18661. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18662. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18663. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18664. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 52K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18665. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18666. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 42K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18667. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18668. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)just.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18669. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)fine大+1 over.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18670. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)fine大-2 under.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18671. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)fringe.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18672. Ni-2Si, J738, RTNS-II, 290℃, SS, ED., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)J738. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18673. Ni-0.05Si, J752, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 52K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)J752. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18674. Ni-0.05Si, J752, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)J752. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18675. Ni-0.05Si, J752, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)J752. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)厚さ勾配はだいたい同じ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18676. Ni-0.05Si, J752, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)J752. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)厚さ勾配はだいたい同じ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-18677. Ni-0.05Si, J752, RTNS-II, 290℃, SS, DF, 100K., 1986. 2. 9.
(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)J752. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)厚さ勾配はだいたい同じ.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16