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北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

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42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53098. ムライト, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53098
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53099. ムライト, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53099
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)下1（＋）　自分↙EM.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53100. ムライト, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53100
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)下3.5（＋）　自分↖EM.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53101. ムライト, BF, 17K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53101
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)17K.

(備考)よこ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53102. ムライト, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53102
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53103. ムライト, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53103
範囲と内容

(試料)ムライト. (Dark, Bright, ED)DF.

(備考)下5（＋）赤10（160）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53104. ムライト., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53104
範囲と内容

(試料)ムライト.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-53105. ムライト., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-53105
範囲と内容

(試料)ムライト.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54250. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54250
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)JM(01).

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54251. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54251
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54252. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54252
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54253. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54253
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54254. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54254
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54255. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54255
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54256. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54256
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54257. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54257
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54258. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54258
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54259. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54259
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54260. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54260
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K.

(備考)上2.5（-）黒1（70）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54261. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 52K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54261
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)52K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54262. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54262
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3.2）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54263. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54263
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3.2）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54264. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54264
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54265. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54265
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54266. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54266
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54267. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54267
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54268. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54268
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54269. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54269
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

(備考)動かしたところ　上と同じ厚さ.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54270. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54270
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54271. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54271
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54272. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54272
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54273. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54273
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54274. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54274
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54275. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54275
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54276. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54276
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54277. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54277
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54278. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54278
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54279. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54279
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54280. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, 100K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54280
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0（3）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54281. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54281
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54282. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54282
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54283. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54283
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54284. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54284
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54285. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54285
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54286. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54286
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54287. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54287
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54288. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54288
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

(備考)隣の視野（同じGB）.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54289. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54289
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54290. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54290
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54291. Ni-2Ge, JMTR　controlled, 290℃, 7, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54291
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)7. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

追加の絞り込み:

主題
北海道札幌市北区北１４条西９丁目 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
ニッケル 7654
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
銅 4972
金 4713
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
銅合金 2961
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
ステンレス鋼 2416
ニッケル合金 2218
鉄 1903
銀 1305
鉄合金 970
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
バナジウム 313
ムライト 246
アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
モリブデン 224
アルミニウム 128
ゲルマニウム 84
炭化珪素 53
資料利用例（論文等掲載元データ登録分） Micrographs published in papers (selelcted) 53
ノート 40
材料試験 40
東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
記録ノート Notebooks 40
電子顕微鏡 40
記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16

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