北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54492. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54492

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54493. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54493

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54494. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54494

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54495. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54495

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54496. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54496

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54497. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54497

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54498. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54498

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54499. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54499

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54500. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54500

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54501. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54501

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54502. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54502

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54503. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54503

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54504. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54504

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54505. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54505

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54506. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54506

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54507. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54507

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54508. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54508

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54509. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54509

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54510. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54510

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54511. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54511

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54512. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54512

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)→ｇ.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54513. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54513

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54514. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54514

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)←ｇ.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54515. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54515

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54516. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54516

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)→ｇ.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54517. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54517

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54518. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54518

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)←ｇ.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54519. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54519

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54520. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54520

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54521. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54521

範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54522. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54522

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)①. 日付元記載「1/31」.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54523. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54523

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54524. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54524

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54525. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54525

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

(備考)①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54526. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54526

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)A　①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54527. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54527

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)B　①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54528. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54528

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)C　①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54529. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54529

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D　①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54530. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54530

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E　GBのそば　①.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54531. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54531

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)A　②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54532. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54532

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)B　②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54533. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54533

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)C　②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54534. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54534

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D　②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54535. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54535

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E　GBのそば　②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54536. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54536

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)②.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54537. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54537

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54538. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54538

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54539. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54539

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54540. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 31K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54540

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54541. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 31K., [1989年]1/31.

アイテム

資料番号: O-54541

範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.

日付: [1989年]1/31.

見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

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