北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58488. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 160K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)160K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58489. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58490. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58491. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58492. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58493. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58494. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58495. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 8K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)8K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58496. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58497. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58498. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58499. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58500. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58501. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58502. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58503. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58504. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58505. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58506. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58507. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58508. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58509. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58510. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58511. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58512. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58513. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58514. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58515. Ni-0.05Cu, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58516. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58517. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58518. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58519. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58520. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58521. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58522. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58523. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
(備考)110pole近く.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58524. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58525. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58526. Ni-0.3Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)いい加減なg.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58527. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58528. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58529. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58530. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58531. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58532. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58533. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58534. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 21K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)他のgrain.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58535. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58536. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
(備考)他のgrain.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58537. Ni-0.4Si, N183, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.4Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16