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北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

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[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58538. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58538
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58539. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58539
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58540. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58540
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58541. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58541
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58542. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58542
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58543. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58543
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58544. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58544
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58545. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58545
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58546. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58546
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58547. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58547
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58548. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58548
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58549. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58549
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58550. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58550
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58551. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58551
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58552. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58552
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58553. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58553
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)110.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58554. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58554
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58555. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58555
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58556. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58556
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58557. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58557
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58558. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58558
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58559. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58559
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58560. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58560
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58561. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58561
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58562. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58562
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58563. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58563
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58564. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58564
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58565. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58565
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58566. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58566
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58567. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58567
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58568. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58568
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58569. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58569
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58570. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58570
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58571. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58571
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58572. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58572
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58573. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58573
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58574. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 8K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58574
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)8K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58575. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 8K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58575
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)8K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58576. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58576
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58577. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58577
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58578. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58578
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58579. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58579
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58580. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58580
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58581. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58581
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58582. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58582
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58583. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, 80K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58583
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)80K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58584. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58584
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58585. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58585
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0（3.5）.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58586. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58586
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58587. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58587
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

追加の絞り込み:

主題
北海道札幌市北区北１４条西９丁目 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
ニッケル 7654
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
銅 4972
金 4713
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
銅合金 2961
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
ステンレス鋼 2416
ニッケル合金 2218
鉄 1903
銀 1305
鉄合金 970
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
バナジウム 313
ムライト 246
アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
モリブデン 224
アルミニウム 128
ゲルマニウム 84
炭化珪素 53
資料利用例（論文等掲載元データ登録分） Micrographs published in papers (selelcted) 53
ノート 40
材料試験 40
東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
記録ノート Notebooks 40
電子顕微鏡 40
記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16

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