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北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

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42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58638. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58638
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58639. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58639
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58640. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58640
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58641. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58641
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)50K.

(備考)pair.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58642. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58642
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)111.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58643. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58643
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58644. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, 5.3K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58644
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)5.3K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58645. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58645
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)110.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58646. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58646
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58647. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58647
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58648. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58648
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58649. Ni-0.05Cu, N114, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58649
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Cu. (試料番号)N114. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58650. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58650
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)X（100面）.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58651. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58651
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58652. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58652
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58653. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58653
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58654. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58654
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58655. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58655
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58656. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58656
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58657. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58657
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58658. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58658
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58659. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58659
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58660. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58660
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58661. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58661
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

(備考)（110）面.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58662. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58662
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)111.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58663. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58663
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58664. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58664
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58665. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58665
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

(備考)dislありなし両者ともｇ＝200でうつす.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58666. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58666
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58667. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58667
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)200.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58668. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58668
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58669. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58669
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58670. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58670
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58671. Ni-0.05Si, N174, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58671
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N174. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58672. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58672
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α　.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58673. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58673
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58674. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58674
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58675. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58675
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58676. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58676
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58677. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58677
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58678. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58678
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58679. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58679
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58680. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58680
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58681. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58681
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)α.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58682. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58682
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58683. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58683
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58684. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58684
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58685. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58685
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58686. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58686
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58687. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58687
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

追加の絞り込み:

主題
北海道札幌市北区北１４条西９丁目 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
ニッケル 7654
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
銅 4972
金 4713
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
銅合金 2961
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
ステンレス鋼 2416
ニッケル合金 2218
鉄 1903
銀 1305
鉄合金 970
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
バナジウム 313
ムライト 246
アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
モリブデン 224
アルミニウム 128
ゲルマニウム 84
炭化珪素 53
資料利用例（論文等掲載元データ登録分） Micrographs published in papers (selelcted) 53
ノート 40
材料試験 40
東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
記録ノート Notebooks 40
電子顕微鏡 40
記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16

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