北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58688. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58689. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58690. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58691. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 5.3K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5.3K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58692. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58693. Ni-0.3Si, N184, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N184. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58694. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58695. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58696. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58697. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58698. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 31K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)31K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58699. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 31K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)31K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58700. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58701. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58702. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58703. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58704. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58705. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58706. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58707. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58708. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58709. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58710. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 31K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)31K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58711. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58712. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58713. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58714. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58715. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58716. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58717. Ni-0.3Ge, N214, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N214. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58718. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)(100)面.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58719. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58720. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58721. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58722. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58723. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58724. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58725. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 42K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58726. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58727. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 42K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58728. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58729. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 42K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58730. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)220.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58731. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58732. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58733. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58734. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58735. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58736. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58737. Ni-0.05Ge, N204, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N204. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16