北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58738. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58739. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58740. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58741. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58742. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58743. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58744. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58745. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58746. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58747. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58748. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58749. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58750. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58751. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58752. Ni-0.05Sn, N234, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.05Sn. (試料番号)N234. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58753. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58754. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58755. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58756. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58757. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58758. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58759. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58760. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58761. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58762. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58763. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58764. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58765. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58766. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58767. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, 52K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)52K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58768. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58769. Ni-0.3Si, N244, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N244. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58770. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58771. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58772. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58773. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58774. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58775. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58776. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58777. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58778. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>0(3).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58779. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58780. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58781. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58782. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K.
(備考)奥のGBの近く.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58783. Ni-50Cu, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-50Cu. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-59434. Fe-33Ni, FN63, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 13K., [19]'89. 10. 12.
(試料)Fe-33Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)FN63. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)13K.
(備考)日付元記載「'89. 10. 12.」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-59435. Fe-33Ni, FN63, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 25K., [19]'89. 10. 12.
(試料)Fe-33Ni. (試料番号)FN63. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-59436. Fe-33Ni, FN63, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 100K., [19]'89. 10. 12.
(試料)Fe-33Ni. (試料番号)FN63. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-59437. Fe-33Ni, FN63, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [19]'89. 10. 12.
(試料)Fe-33Ni. (試料番号)FN63. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)以下同じ場所(+9赤6).
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16