北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64987. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64988. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64989. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
(備考)FC+6↷.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64990. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)FC+6↶.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64991. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64992. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64993. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64994. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64995. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64996. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS.
(備考)map エッジ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64997. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, DF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64998. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, SS, ED., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-64999. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (EM/D3)EM. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃.
(備考)EMケンマ3回 map.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65000. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, 53K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)53K.
(備考)map.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65001. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65002. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65003. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65004. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s中.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65005. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65006. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65007. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65008. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65009. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65010. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65011. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, ED., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65012. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 21K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (反射ベクトルg)111.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65013. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 21K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65014. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 21K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65015. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65016. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65017. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 21K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)1視野内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65018. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 11K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)1視野内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65019. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF, 31K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)細いのもループ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65020. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)DFT.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65021. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)DFT.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65022. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, DF, 100K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)DFT.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65023. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, ED., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)map.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65024. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65025. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)別の場所 内部.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65026. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s小.
(備考)エッジ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65027. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, BF., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)エッジ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65028. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃, ED., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65029. Cu-0.05Si, RTNS-II, 200℃., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-0.05Si. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃.
(備考)map.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65030. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, DF, 52K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)ケンマ3回.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65031. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, BF, 52K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65032. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, DF, 52K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65033. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, ED., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65034. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65035. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, BF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s小.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-65036. Cu-2Ni, RTNS-II, 200℃, DF, 42K., [1990年9月10日.]
(試料)Cu-2Ni. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)42K. (ブラック条件からのずれs)s小.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16