北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86364. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)小ループ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86365. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86365. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86366. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86366. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86367. JLF-4, JMTR, 200℃, BF, 17K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)17K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86367. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86368. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86368. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86369. JLF-4, JMTR, 200℃, DF, 17K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)17K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86369. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, BF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86370. JLF-4, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86370. Ni-0.3Si, JMTR, 350℃, ED., 1992. 10. 23.
(試料)Ni-0.3Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)350℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86371. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86371. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 11K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)日付元記載「1992. 10. 23」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86372. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86372. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86373. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86373. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86374. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86374. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 21K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86375. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86375. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86376. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86376. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, DF, 52K., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86377. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86377. NI-0.05Si, JMTR, 200℃, ED., 1992. 10. 23.
(試料)NI-0.05Si. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86378. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86379. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86380. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K. (反射ベクトルg)転位.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86381. JLF-5, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86382. JLF-5, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86383. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) -8.5ステレオ. 日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86384. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)0ステレオ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86385. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86386. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86387. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86388. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86389. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86390. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86391. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86392. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86393. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86394. JLF-6, JMTR, 200℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86395. JLF-6, JMTR, 200℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-6. (照射条件)JMTR. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86396. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) 0ステレオ. 日付元記載「90. 11. 14」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86397. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考) -7ステレオ.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86398. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86399. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86400. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.
(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16