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北海道大学工学部精密工学科物理工学講座

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42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86401. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86401
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86402. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86402
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86403. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86403
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86404. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86404
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86405. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86405
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86406. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86406
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86407. JLF-1, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 14.

 アイテム
資料番号: O-86407
範囲と内容

(試料)JLF-1. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 14.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86408. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86408
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

(備考)　-5ステレオ. 日付元記載「90. 11. 15」. 実験者元記載「浜田」.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86409. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86409
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

(備考)　＋5ステレオ.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86410. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86410
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86411. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86411
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86412. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86412
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86413. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86413
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86414. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86414
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86415. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86415
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86416. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86416
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86417. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86417
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86418. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86418
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86419. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86419
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86420. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86420
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86421. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86421
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86422. JLF-2, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 15.

 アイテム
資料番号: O-86422
範囲と内容

(試料)JLF-2. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 15.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86423. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86423
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

(備考)粒子のところが光にエッチングされている. 日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86424. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86424
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86425. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86425
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86426. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86426
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86427. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86427
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86428. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86428
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86429. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86429
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86430. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86430
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86431. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86431
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86432. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86432
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86433. JLF-3, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86433
範囲と内容

(試料)JLF-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86434. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86434
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

(備考)ループか. 日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86435. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86435
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86436. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86436
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86437. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86437
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86438. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86438
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86439. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86439
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86440. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86440
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86441. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86441
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86442. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 25K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86442
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)25K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86443. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 50K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86443
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86444. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86444
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86445. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86445
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

(備考)ボイドなし.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86446. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86446
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86447. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86447
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86448. JLF-4, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86448
範囲と内容

(試料)JLF-4. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86449. JLF-5, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86449
範囲と内容

(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

(備考)日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86450. JLF-5, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.

 アイテム
資料番号: O-86450
範囲と内容

(試料)JLF-5. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.

日付: [19]90. 11. 16.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

追加の絞り込み:

主題
北海道札幌市北区北１４条西９丁目 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
ニッケル 7654
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
銅 4972
金 4713
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
銅合金 2961
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
ステンレス鋼 2416
ニッケル合金 2218
鉄 1903
銀 1305
鉄合金 970
共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
バナジウム 313
ムライト 246
アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
モリブデン 224
アルミニウム 128
ゲルマニウム 84
炭化珪素 53
資料利用例（論文等掲載元データ登録分） Micrographs published in papers (selelcted) 53
ノート 40
材料試験 40
東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
記録ノート Notebooks 40
電子顕微鏡 40
記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16

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