北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86501. JHM-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 52K., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s<0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86502. JHM-3, JMTR controlled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86503. JHM-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 52K., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ボイド.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86504. JHM-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)ボイド.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86505. JHM-3, JMTR controlled, 400℃, BF, 21K., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86506. JHM-3, JMTR controlled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)JHM-3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86507. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 42K., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)42K.
(備考)日付元記載「90. 11. 16」. 実験者元記載「浜田」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86508. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 42K., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)42K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86509. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86510. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86511. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86512. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86513. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86514. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86515. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [19]90. 11. 16.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86516. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, BF., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)BF.
(備考)日付元記載「11/19」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86517. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, ED., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86518. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, BF., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)BF.
(備考)boundary.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86519. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, BF., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)BF.
(備考)反対側.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86520. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, ED., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)この傾きのdiff.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86521. Ni, JMTR uncontrolled, 300℃, ED., [1990年]11/19.
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)その時と同じXY傾きのdiff.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86523. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)loop. 日付元記載「11/20」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86524. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 52K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s<<0.
(備考)SFT.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86525. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) +18赤0-8(209.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86526. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)傾き0のときのdiff.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86527. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 31K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)31K.
(備考) X0 Y黒0-3(80)傾き0,0付近.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86528. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (反射ベクトルg)112.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86529. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86530. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86531. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (反射ベクトルg)111.
(備考)β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86532. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)傾き 0,0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86533. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K. (反射ベクトルg)220.
(備考)α -3.5黒3-6(160).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86534. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86535. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)β -4黒6(0).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86536. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86537. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1990年]11/20.
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)傾き0,0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86538. Ni-2Cu, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86539. Ni-3Cu, JMTR uncontrolled, 401℃, ED., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-3Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)401℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86540. Ni-4Cu, JMTR uncontrolled, 402℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-4Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)402℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86541. Ni-5Cu, JMTR uncontrolled, 403℃, ED., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-5Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)403℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86542. Ni-6Cu, JMTR uncontrolled, 404℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-6Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)404℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86543. Ni-7Cu, JMTR uncontrolled, 405℃, ED., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-7Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)405℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)110から15°離れている.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86544. Ni-8Cu, JMTR uncontrolled, 406℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-8Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)406℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)surface A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86545. Ni-9Cu, JMTR uncontrolled, 407℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-9Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)407℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86546. Ni-10Cu, JMTR uncontrolled, 408℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-10Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)408℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86547. Ni-11Cu, JMTR uncontrolled, 409℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-11Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)409℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86548. Ni-12Cu, JMTR uncontrolled, 410℃, BF, 21K., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-12Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)410℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86549. Ni-13Cu, JMTR uncontrolled, 411℃, ED., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-13Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)411℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86550. Ni-14Cu, JMTR uncontrolled, 412℃., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-14Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)412℃.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-86551. Ni-15Cu, JMTR uncontrolled, 413℃., [1990年11月20日.]
(試料)Ni-15Cu. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)413℃.
(備考)B.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16