北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88039. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)以下同じ視野.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88040. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88041. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88042. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88043. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88044. Ni-2Sn, A984, JMTR uncontrolled, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A984. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88045. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EMをケンマ just 2 1/2法.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88046. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)over2.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88047. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)under2.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88048. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88049. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88050. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88051. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88052. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88053. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)near (110)pole.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88054. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88055. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88056. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88057. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EM polishied from EM α +15赤12(220).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88058. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88059. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88060. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88061. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88062. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88063. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88064. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88065. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88066. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β A+7.5赤7(140).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88067. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88068. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88069. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88070. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88071. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C grain変更.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88072. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88073. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88074. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88075. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88076. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88077. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88078. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α -2黒0-3(120).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88079. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88080. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88081. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)C α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88082. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88083. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考) α dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88084. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88085. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A β +-0黒6-9(100).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88086. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)D β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88087. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)E β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88088. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)F β.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16