北海道大学工学部精密工学科物理工学講座
42504 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88189. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88190. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88191. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88192. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88193. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88194. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88195. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88196. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88197. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88198. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88199. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88200. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88201. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88202. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88203. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88204. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, 31K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)31K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88205. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88206. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88207. Ni, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88208. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88209. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88210. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88211. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88212. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88213. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88214. Ni-2Si, JMTR controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88215. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88216. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88217. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88218. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88219. Ni-2Si, JMTR controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.
(備考)B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88220. Ni-2Si, JMTR controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88221. Ni-2Si, JMTR controlled, DF., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88222. Ni-2Si, JMTR controlled, BD., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88223. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88224. Ni-2Si, JMTR controlled, BD., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88225. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88226. Ni-2Si, JMTR controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88227. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88228. Ni-2Si, JMTR controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88229. Ni-2Si, JMTR controlled, BD, 53K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)53K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88230. Ni-2Si, JMTR controlled, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR controlled. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88231. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88232. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88233. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88234. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88235. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88236. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, DF., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88237. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, DF, 53K., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)53K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88238. Ni, JMTR controlled, 300℃, 01, ED., [1991年2月6日以降.]
(試料)Ni. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)300℃. (照射量)01. (Dark, Bright, ED)ED.
追加の絞り込み:
- 主題
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24471
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 23320
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 17993
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10146
- ニッケル 7654
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7249
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5427
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5245
- 銅 4972
- 金 4713
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4293
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3965
- 銅合金 2961
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2937
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2482
- ステンレス鋼 2416
- ニッケル合金 2218
- 鉄 1903
- 銀 1305
- 鉄合金 970
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 768
- バナジウム 313
- ムライト 246
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 224
- アルミニウム 128
- ゲルマニウム 84
- 炭化珪素 53
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 53
- ノート 40
- 材料試験 40
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 40
- 記録ノート Notebooks 40
- 電子顕微鏡 40
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 24
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 16