京都大学原子炉実験所材料照射効果研究分野, -2003
20938 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98486. Ni , JMTR clid, DF, 100K., [1994年12月16日.]
(試料)Ni . (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR clid. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)RT.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98487. Ni , JMTR clid, BF, 100K., [1994年12月16日.]
(試料)Ni . (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR clid. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98488. Ni , JMTR clid, BF, 20K., [1994年12月16日.]
(試料)Ni . (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR clid. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98489. Ni , JMTR clid, BF, 20K., [1994年12月16日.]
(試料)Ni . (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR clid. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98490. Ni , JMTR clid., [1994年12月16日.]
(試料)Ni . (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR clid.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98493. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>>0.
(備考)Isochronal ann. At 400℃, α. 日付元記載「12/17」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98494. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>>0.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98495. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>>0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98496. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)S>>>0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98497. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)23分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98498. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)30分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98499. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)45分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98500. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)60分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98501. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)90分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98502. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)120分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98503. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)150分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98504. Ni., [1994年]12/17.
(試料)Ni.
(備考)150分 β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98505. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98506. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98507. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98508. Ni, DF, 100K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98509. Ni, DF, 50K., [1994年]12/17.
(試料)Ni. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98511. Cu-0.05Ni, D222, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)D222. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)near 110. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)多分割 方位依存性. 日付元記載「12/17」. 実験者元記載「河内」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98512. Cu-0.05Ni, D222, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)D222. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98513. Cu-0.05Ni, D222, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)D222. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)near 211. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98514. Cu-0.05Ni, D222, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)D222. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98515. Cu-0.3Si, D227, 200℃, BF, 20K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (反射ベクトルg)near 211. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)多分割.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98516. Cu-0.3Si, D227, 200℃, BF., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98517. Cu-0.3Si, D227, 200℃, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98518. Cu-0.3Si, D227, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98519. Cu-0.3Si, D227, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)near 110. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98520. Cu-0.3Si, D227, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98521. Cu-0.3Si, D227, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)near 100.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98522. Cu-0.3Si, D227, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.3Si. (EM/D3)EM. (試料番号)D227. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98523. Cu-0.05Sn, D225, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)D225. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)near 211. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98524. Cu-0.05Sn, D225, 200℃, ED., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)D225. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98525. Cu-0.05Sn, D225, 200℃, BF, 30K., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)D225. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)ミス.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98526. Cu-0.05Sn, D225, 200℃, Dummy., [1994年]12/17.
(試料)Cu-0.05Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)D225. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)Dummy.
(備考)多分割 試料厚すぎる.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98527. Cu, Cu+60keV, map用, 100., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)100.
(備考)12.16irr. 日付元記載「12/17」. 実験者元記載「加藤, 木塚」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98528. Cu, Cu+60keV, map用, 100., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)100.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98529. Cu, Cu+60keV, map用, 100., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)100.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98530. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98531. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98532. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98533. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98534. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98535. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98536. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98537. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-98538. Cu, Cu+60keV, map用, 1000., [1994年]12/17.
(試料)Cu. (照射条件)Cu+60keV. (Dark, Bright, ED)map用. (条件・倍率等)1000.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 20887
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 20370
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7080
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5619
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3702
- ニッケル 3538
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 2916
- 銅 2841
- 金 1686
- バナジウム 1634
- 銀 1529
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1173
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 746
- 鉄 575
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 517
- 鉄合金 429
- ステンレス鋼 368
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 356
- ノート 51
- 材料試験 51
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 51
- 記録ノート Notebooks 51
- 電子顕微鏡 51
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 14
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 9
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 6
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 6
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5
- 珪素 5
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 4
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 1