義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43049. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 330K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)330K.
(備考)」200.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43050. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43051. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43052. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43053. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)220.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43054. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)220.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43055. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)220.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43056. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 200K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)200K.
(備考)220.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43057. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43058. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43059. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 200K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)200K.
(備考)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43060. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)200.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43061. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)100K.
(備考)200.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43062. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 200K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)200K.
(備考)200.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43063. SUS, J094, RTNS-II last, 290℃, SS, 330K., [1989年7月24日.]
(試料)SUS. (EM/D3)D3. (試料番号) J094. (照射条件)RTNS-II last. (照射温度)290℃. (照射量)SS. (条件・倍率等)330K.
(備考)200.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43064. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43065. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43066. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43067. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43068. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43069. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43070. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43071. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43072. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43073. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43074. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43075. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43076. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43077. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43078. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43079. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43080. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43081. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, DF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43082. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43083. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43084. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)ボイドなし.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43085. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)ボイドなし.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43086. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ボイドなし.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43087. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)ボイドなし.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43088. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)ボイドなし.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43089. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43090. Ni-0.3Sn, JMTR controlled, 290℃, ED., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Sn. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43091. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43092. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43093. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43094. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43095. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, BF, 100K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43096. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43097. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 20K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43098. Ni-0.3Si, JMTR controlled, 290℃, DF, 50K., [1989年7月24日.]
(試料)Ni-0.3Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1