義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43700. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43701. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43702. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43703. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43704. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43705. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43706. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43707. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43708. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A near 110.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43709. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)B near 110.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43710. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43711. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43712. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43713. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43714. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 29.
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43715. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s≧0.
(備考)large loops.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43716. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43717. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s≧0.
(備考)少し視野ずらす.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43718. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)少し視野ずらす.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43719. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s≧0.
(備考)200反射(以下判読不能)、高次.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43720. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43721. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43722. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B あるふぁ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43723. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43724. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43725. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43726. Ni, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43727. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43728. Ni, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43729. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)e-のものと思われる。.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43730. Ni, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月29日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)Large loop by n-irr.なしと断言.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43740. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α. 日付元記載「1989. 8. 30」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43741. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10k., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10k. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43742. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43743. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43744. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43745. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↓.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43746. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43747. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43748. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43749. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43750. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43751. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43752. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43753. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43754. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43755. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43756. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43757. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43758. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A γ.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1