義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43759. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43760. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)s>0 just.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43761. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↓. (ブラック条件からのずれs)over 1step(M-L).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43762. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)under.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43763. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)↑.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43764. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43765. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43766. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)↑. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43767. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A δ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43768. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43769. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43770. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 10K., 1989. 8. 30.
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43771. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43772. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)75とg 逆.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43773. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43774. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43775. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, DF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)72とg 逆.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43776. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43777. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43778. Ni-2Si, N133, JMTR controlled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)N133. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)G.B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43779. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)T-Controlled A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43780. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43781. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)C γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43782. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43783. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C γ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43784. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)111.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43785. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43786. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43787. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43788. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43789. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43790. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43791. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43792. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43793. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43794. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)E α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43795. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43796. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)D β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43797. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)E β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43798. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43799. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43800. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43801. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43802. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)↓ 下とs逆.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43803. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, DF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)↑ 上とs逆.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43804. Ni-2Ge, N223, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N223. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43805. Ni, N103, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)N103. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0 下と対.
(備考)T-Uncontrolled, 露光短 sizeを見るため.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43806. Ni, N103, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)N103. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0 上と対.
(備考)露光長 中をみるため.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43807. Ni, N103, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)N103. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0 下と対.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43808. Ni, N103, JMTR controlled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni. (EM/D3)EM. (試料番号)N103. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (ブラック条件からのずれs)s>0 上と対.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1