義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43909. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43910. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 150K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)150K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43911. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43912. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43913. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43914. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43915. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43916. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43917. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ1.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43918. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43919. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43920. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 10K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43921. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43922. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43923. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43924. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43925. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43926. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)γ2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43927. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)γ3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43928. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)γ3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43929. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 150K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)150K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)γ3.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43930. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43931. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
(備考)多分研磨の穴.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43932. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43933. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)near 110 pole. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43934. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)near 110 pole. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43935. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 5K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K. (反射ベクトルg)near 110 pole. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43936. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43937. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 200K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)200K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43938. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43939. Ni-2Sn, N254, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)N254. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43940. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A α. 日付元記載「1989. 9. 1」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43941. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43942. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43943. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43944. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)E α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43945. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43946. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43947. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)A β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43948. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)B β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43949. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 50K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)C β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43950. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)D β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43951. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, DF, 100K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)E β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43952. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43953. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43954. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43955. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 20K., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43956. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, BF., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43957. Ni-2Si, N194, JMTR uncontrolled, 400℃, ED., 1989. 9. 1.
(試料)Ni-2Si. (試料番号)N194. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-43958. Ni-2Ge, N224, JMTR uncontrolled, 400℃, BF, 15K., [1989年9月1日.]
(試料)Ni-2Ge. (試料番号)N224. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)15K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
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- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1