義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8772. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8773. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8774. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8775. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8776. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8777. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8778. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8779. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8780. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8781. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8782. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8783. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8784. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8785. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8786. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8787. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8788. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8789. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8790. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8791. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8792. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8793. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8794. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8795. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8796. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8797. Ni,quench, Af926, RTNS-II, RT, W., [1987年7月21日.]
(試料)Ni,quench. (EM/D3)EM. (試料番号)Af926. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT. (照射量)W.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8798. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8799. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8800. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8801. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8802. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8803. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8804. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8805. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8806. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8807. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8808. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8809. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8810. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8811. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8812. Ni-2Si, R193, RTNS-II, RT(last), DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)R193. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8813. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8814. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8815. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8816. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8817. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, ED, 55cm., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED. (条件・倍率等)55cm.
(備考)α.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8818. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8819. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8820. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-8821. Ni-2Sn, R493, RTNS-II, RT(last), SS, DF, 100K., [1987年7月21日.]
(試料)Ni-2Sn. (EM/D3)EM. (試料番号)R493. (照射条件)RTNS-II. (照射温度)RT(last). (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1