義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80920. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)3min50sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80921. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)9min.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80922. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)途中でやめた.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80923. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)30min18sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80924. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)30min18sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80925. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)63min.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80926. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)析出物付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80927. NO2, DF., [1992年]2/17.
(試料)NO2. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)析出物付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80928. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)交差付近. 日付元記載「2/24」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80929. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)↓ 下方向.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80930. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)↓ 下方向.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80931. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)すぐ上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80932. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80933. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80934. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80935. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)3段になっているところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80936. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)単相のところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80937. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80938. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80939. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)すぐ下.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80940. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)下と同じ場所 GB近く.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80941. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80942. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80943. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80944. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり前.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80945. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)見える.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80946. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)完全に重なり 見えない.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80947. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)半分重なっている所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80948. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)半分重なっている所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80949. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なっていない中間部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80950. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なっていない中間部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80951. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)中央付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80952. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)中央付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80953. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, ED., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80954. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)下と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80955. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)上と同じ場所.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80956. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, ED., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)200.
(備考)厚さ測定用.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80957. Ni(No.1), 1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni(No.1). (照射条件)1MeV 4Heマスク照射(30μA,~300秒. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左の交差部分 」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80958. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)試料の重なったところ. 日付元記載「2/24」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80959. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)58と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80960. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80961. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)60と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80962. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80963. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)62の都築少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80964. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)63と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80965. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)62と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80966. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)Boundary付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80967. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)66と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80968. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)Boundary付近.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80969. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)68と同じところ.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1