義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80970. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80971. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)70の続き 少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80972. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)71と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80973. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)70と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80974. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80975. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)74の続き 少し内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80976. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)75と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80977. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/24.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)74と同じところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80978. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 10K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)10K.
(備考)交差部分右. 日付元記載「2/25」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80979. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80980. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80981. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80982. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80983. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)外.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80984. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80985. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80986. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)外.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80987. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80988. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (条件・倍率等)100K.
(備考)左.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80989. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)更に.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80990. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80991. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF.
(備考)更に内.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80992. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)重なり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80993. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)左.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80994. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)左奥.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80995. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80996. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)100. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)等圧干渉じま 波うっている.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80997. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)右側重なり部分. 日付元記載「2/26」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80997. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/25.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K. (反射ベクトルg)100. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)重なりのところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80998. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-80999. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81000. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)(判読不能)の方へマスクされている側.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81001. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 5K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5K.
(備考)マスクきずあり.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81002. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)交差部分.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81003. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81004. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81005. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)左へ マップ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81006. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)?.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81007. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K.
(備考)カバー.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81008. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)30K.
(備考)オーバーラップしているところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81009. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 10K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
(備考)内部.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81010. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 30K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)30K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81011. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 50K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)少し暗い.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81012. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81013. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 50K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)クロスしているところ.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81014. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100or50K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100or50K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81015. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)界面.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81016. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, BF, 100K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81017. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-81018. Ni, 1MeV 4He マスク照射 60μA, DF, 100K., [1992年]2/26.
(試料)Ni. (試料番号)1MeV 4He マスク照射 60μA. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)うねっていないところ.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1