義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91903. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/26.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91904. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF., [1994年]1/26.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91905. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10min at 400K(1.85mV). 実験者元記載「三間」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91906. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91907. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91908. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91909. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91910. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)β area B +5赤1.5(40).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91911. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91912. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91913. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91914. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)Annealing 10min at 450K(2.9mV) β area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91915. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91916. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91917. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91918. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)間違い.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91919. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A +0.5黒6(60).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91920. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91921. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91922. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91923. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10min at 500K(3.55mV). 実験者元記載「三間」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91924. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91925. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91926. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91927. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91928. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91929. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10nmin at 550K(4.45mV).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91930. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91931. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91932. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月26日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91933. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annaeling 10min at 600K(5.35mV). 日付元記載「1/27」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91934. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91935. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91936. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91937. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91938. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91939. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/27.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91940. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10min at 650K(6.30mV). 日付元記載「1/28」. 実験者元記載「三間」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91941. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91942. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91943. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91944. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>>0.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91945. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91946. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91947. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91948. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B expose 4sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91949. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B expose 5.6sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91950. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α area A Annealing 10min at 750K(8.25mV).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91951. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α area A .
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91952. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α area B .
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- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1