義家, 敏正, 1948-
63414 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91953. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B expose 5.6sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91954. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年]1/28.
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B expose 4sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91955. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10min at 800K(9.22mV). 実験者元記載「三間」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91956. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91957. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91958. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B exposure 5.6sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91959. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B exposure 4sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91960. Ag, Cu ion照射, 150keV, ED., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91961. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area C.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91962. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A annealing 10min at 850K(10.2mV).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91963. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91964. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91965. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area A exposure 4.0sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91966. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)α area A exposure 4.0sec.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91967. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)α area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91968. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)area C.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91969. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)area C.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91970. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=3.
(備考)area B ビーム広げる.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91971. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=3.
(備考)area B ビーム少ししぼる.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91972. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91973. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)β area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91974. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 50K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)50K.
(備考)β area A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91975. Ag, Cu ion照射, 150keV, BF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91976. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)β area B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91977. Ag, Cu ion照射, 150keV, DF, 100K., [1994年1月28日.]
(試料)Ag. (照射条件)Cu ion照射. (照射量)150keV. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)area B ビーム少し広げて.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91978. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)hot ①. 日付元記載「2/1」. 実験者元記載「河内」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91979. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
(備考)② -4.5黒2.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91980. Ni-2Si, ED., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91981. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K.
(備考)Grain B ③.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91982. Ni-2Si., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)④.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91983. Ni-2Si, ED., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) (0 0).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91984. Ni-2Si., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si.
(備考)⑤ grain A+B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91985. Ni-2Si, ED., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)A.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91986. Ni-2Si, ED., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)B.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91987. Ni-2Si., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si.
(備考)area C 両grain.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91988. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考) ⑥ 1.7赤10 D.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91989. Ni-2Si, BF, 10K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91990. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)⑦ (-1、赤7)D.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91991. Ni-2Si, ED., [1994年]2/1.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) (0 0).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91992. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)⑧ area E (-15黒7).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91993. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)⑨ area F (-15黒5).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91994. Ni-2Si, ED., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)失敗.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91995. Ni-2Si, BF, 20K., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)⑩ area EF (-15黒6).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91996. Ni-2Si, DF, 20K., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)20K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)area G (-6赤14).
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91997. Ni-2Si, ED., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)E.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91998. Ni-2Si, ED., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)F.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-91999. Ni-2Si, ED., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)G.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-92000. Ni-2Si., [1994年2月1日.]
(試料)Ni-2Si.
(備考)X.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-92002. Ni-2Si, BF, 10K., [1994年]2/2.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
(備考) (-9赤12(40)). 日付元記載「2/2」. 実験者元記載「こーち」.
[ネガフィルム, Lシリーズ] L-92003. Ni-2Si, BF, 10K., [1994年]2/2.
(試料)Ni-2Si. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)10K. (ブラック条件からのずれs)S>>0.
(備考) (-9赤12(40)).
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 63352
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 42464
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 38363
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 24988
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 24066
- ニッケル 11193
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 10147
- 銅 7814
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 7081
- 金 6400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 5848
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 5620
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 5428
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 5246
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 4294
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 3703
- 銅合金 2962
- 銀 2835
- ステンレス鋼 2785
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 2483
- 鉄 2479
- ニッケル合金 2219
- バナジウム 1948
- 鉄合金 1400
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1174
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 357
- ムライト 247
- アメリカ ワシントン州 ハンフォード 242
- モリブデン 225
- アルミニウム 129
- ゲルマニウム 85
- ノート 63
- 材料試験 63
- 記録ノート Notebooks 63
- 電子顕微鏡 63
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 62
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 55
- 炭化珪素 54
- 記録ノート Notebooks::Lシリーズ L series 37
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 25
- 珪素 6
- Collection 1
- アルミニウム合金 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1