桐谷, 道雄, 1932-2003
13101 コレクションおよび/またはレコード 表示:
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4523. Ni, A3, RTNS-II , RT, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)RT. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)TW 2%(RT).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4524. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, BF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4525. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4526. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4527. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, DF, 100K., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4528. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4529. Cu3Au, A45, RTNS-II , 200℃, SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Cu3Au. (試料番号)A45. (照射条件)RTNS-II . (照射温度)200℃. (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4530. Ni, A3, RTNS-II , SS., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4531. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4532. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4533. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4534. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4535. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4536. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4537. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4538. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4539. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4540. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4541. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4542. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4543. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4544. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4545. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4546. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4547. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4548. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4549. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4550. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4551. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4552. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4553. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4554. Ni, A3, RTNS-II , SS., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4555. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4556. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4557. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4558. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4559. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4560. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4561. Ni, A3, RTNS-II , SS, DF, 52K., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4562. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4563. Ni, A3, RTNS-II , SS, ED., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考)ε=2% Annealing Exp.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4564. Ni, A3, RTNS-II , SS., [1984年5月9日.]
(試料)Ni. (試料番号)A3. (照射条件)RTNS-II . (照射量)SS.
(備考)失敗.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4726. ZnO, 非照射, BF, LM., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)LM.
(備考)像、EDの関連をZnO針結晶で検証4748まで. 日付元記載「60年1月10~12」.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4727. ZnO, 非照射, BF, 1., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)1.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4728. ZnO, 非照射, BF, 8., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)8.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4729. ZnO, 非照射, BF, 8., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)8.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4730. ZnO, 非照射, BF, 21., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4731. ZnO, 非照射, BF, 42., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)42.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4732. ZnO, 非照射, BF, 80., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)80.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-4733. ZnO, 非照射, BF, 100., [昭和]60年1月10~12., [1985-01-10/1985-01-12.]
(試料)ZnO. (照射条件)非照射. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100.
追加の絞り込み:
- 主題
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs 13090
- 北海道札幌市北区北14条西9丁目 12427
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series 12283
- アメリカ カリフォルニア州 リバモア 9902
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1986-1987 昭和61年度 7250
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1985-1986 昭和60年度 3966
- ニッケル 3302
- 金 2647
- 銅合金 1996
- 銅 1534
- 電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Lシリーズ L series 806
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1984-1985 昭和59年度 769
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1993-1994 平成5年度 356
- ニッケル合金 327
- ステンレス鋼 322
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1987-1988 昭和62年度 291
- 銀 244
- 鉄 227
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1992-1993 平成4年度 163
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1994-1995 平成6年度 161
- ゲルマニウム 85
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1990-1991 平成2年度 57
- 資料利用例(論文等掲載元データ登録分) Micrographs published in papers (selelcted) 36
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1988-1989 昭和63年度 33
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1991-1992 平成3年度 33
- バナジウム 19
- モリブデン 18
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1995-1996 平成7年度 18
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1989-1990 平成元年度 17
- ノート 12
- 材料試験 12
- 記録ノート Notebooks 12
- 電子顕微鏡 12
- 東北大学金属材料研究所附属材料試験炉利用施設 11
- 記録ノート Notebooks::Oシリーズ O series 11
- Collection 1
- アルミニウム 1
- アルミニウム合金 1
- ムライト 1
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1996-1997 平成8年度 1
- 共同研究実施年度 Year of joint research projects::1997-1998 平成9年度 1
- 写真 1
- 原子炉材料 1
- 格子欠陥 1
- 炭化珪素 1
- 珪素 1
- 結晶構造 1
- 金属材料 1
- 金属複合材料 1
- 鉄合金 1