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ニッケル合金

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件名：ソース: Ku Peek

2219 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54365. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54365
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54366. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54366
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54367. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54367
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54368. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54368
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54369. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54369
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54370. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54370
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54371. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54371
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54372. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54372
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54373. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54373
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54374. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54374
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54375. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54375
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54376. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54376
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54377. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54377
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

(備考)前のとなりのgrain.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54378. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54378
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54379. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54379
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54380. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF, 5.2K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54380
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5.2K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54381. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54381
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54382. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54382
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54383. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54383
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54384. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54384
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54385. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54385
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54386. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54386
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54387. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54387
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54388. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54388
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54389. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54389
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54490. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54490
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)日付元記載「1/31」.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54491. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54491
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54492. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54492
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54493. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54493
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54494. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54494
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54495. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54495
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54496. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54496
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54497. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54497
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54498. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54498
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.5.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54499. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54499
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54500. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54500
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54501. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54501
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54502. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54502
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54503. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54503
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54504. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

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資料番号: O-54504
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54505. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54505
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54506. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 100K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54506
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54507. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54507
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54508. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54508
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝1.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54509. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, DF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54509
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝2.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54510. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54510
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54511. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 52K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54511
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54512. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54512
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)→ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54513. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, ED., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54513
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54514. Ni-2Si, JMTR uncontrolled, 300℃, 11, BF, 210K., [1989年]1/31.

 アイテム
資料番号: O-54514
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR uncontrolled. (照射温度)300℃. (照射量)11. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)210K.

(備考)←ｇ.

日付: [1989年]1/31.
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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