ニッケル合金
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[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88049. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, BF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88050. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88051. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88052. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88053. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)near (110)pole.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88054. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88055. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88056. Ni-2Sn, A983, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Sn. (試料番号)A983. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88057. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (EM/D3)EM. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)EM polishied from EM α +15赤12(220).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88058. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88059. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88060. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88061. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88062. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88063. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88064. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88065. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)α B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88066. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β A+7.5赤7(140).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88067. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88068. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88069. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88070. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)β B.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88071. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)C grain変更.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88072. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, DE, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DE. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s>>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88073. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88074. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88075. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88076. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)C.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88077. Ni-2Si, A894, JMTR conventional, 200℃, BF., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A894. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (ブラック条件からのずれs)s>0.
(備考)D.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88078. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α -2黒0-3(120).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88079. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88080. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)B α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88081. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)C α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88082. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88083. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考) α dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88084. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) α.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88085. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A β +-0黒6-9(100).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88086. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)D β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88087. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)E β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88088. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)F β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88089. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)F β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88090. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, ED., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.
(備考) β.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88091. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)A.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88092. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
(備考)B-F.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88093. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88094. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.
(備考)β dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88095. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, BF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.
(備考)β dislocation.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88096. Ni-2Si, A893, JMTR controlled, 200℃, DF, 21K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Si. (試料番号)A893. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)21K. (ブラック条件からのずれs)s=0.
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88097. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.
(備考)A α -11赤6-9(320).
[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88098. Ni-2Cu, A924, JMTR conventional, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]
(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A924. (照射条件)JMTR conventional. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.
(備考)A α.