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ニッケル合金

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件名：ソース: Ku Peek

2219 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88149. Ni-2Ge, A953, JMTR controlled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月5日.]

 アイテム
資料番号: O-88149
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A953. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1991年2月5日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88150. Ni-2Ge, A953, JMTR controlled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月5日.]

 アイテム
資料番号: O-88150
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A953. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1991年2月5日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88151. Ni-2Ge, A953, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]

 アイテム
資料番号: O-88151
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A953. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.

日付: [1991年2月5日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88152. Ni-2Ge, A953, JMTR controlled, 200℃, BF, 52K., [1991年2月5日.]

 アイテム
資料番号: O-88152
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A953. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)52K.

(備考)別のgrain.

日付: [1991年2月5日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88208. Ni-2Si, JMTR　controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88208
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (EM/D3)D3. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88209. Ni-2Si, JMTR　controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88209
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88210. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88210
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88211. Ni-2Si, JMTR　controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88211
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88212. Ni-2Si, JMTR　controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88212
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88213. Ni-2Si, JMTR　controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88213
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88214. Ni-2Si, JMTR　controlled, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88214
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (条件・倍率等)16K. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88215. Ni-2Si, JMTR　controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88215
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88216. Ni-2Si, JMTR　controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88216
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88217. Ni-2Si, JMTR　controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88217
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.

(備考)A.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88218. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88218
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88219. Ni-2Si, JMTR　controlled, DF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88219
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)16K.

(備考)B.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88220. Ni-2Si, JMTR　controlled, BF, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88220
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88221. Ni-2Si, JMTR　controlled, DF., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88221
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88222. Ni-2Si, JMTR　controlled, BD., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88222
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BD.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88223. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88223
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88224. Ni-2Si, JMTR　controlled, BD., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88224
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BD.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88225. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88225
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88226. Ni-2Si, JMTR　controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88226
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88227. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88227
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88228. Ni-2Si, JMTR　controlled, BD, 16K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88228
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)16K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88229. Ni-2Si, JMTR　controlled, BD, 53K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88229
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)BD. (条件・倍率等)53K.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88230. Ni-2Si, JMTR　controlled, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88230
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88253. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88253
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)α　-9,10.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88254. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88254
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88255. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88255
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88256. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88256
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88257. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88257
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88258. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88258
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88259. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88259
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88260. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88260
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88261. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88261
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88262. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88262
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)α.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88263. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88263
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β　-8赤9（0）.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88264. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88264
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88265. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88265
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88266. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 100K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88266
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88267. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88267
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88268. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88268
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88269. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88269
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88270. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88270
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88271. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, ED., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88271
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)ED.

(備考)β.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88272. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88272
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)A.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88273. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88273
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)C.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88274. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88274
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)D.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-88275. Ni-2Ge, A954, JMTR　uncontrolled, 200℃, DF, 52K., [1991年2月6日以降.]

 アイテム
資料番号: O-88275
範囲と内容

(試料)Ni-2Ge. (試料番号)A954. (照射条件)JMTR　uncontrolled. (照射温度)200℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)52K.

(備考)A.

日付: [1991年2月6日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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