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電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series

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件名：ソース: Ku Peek Class

24989 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54335. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54335
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)200.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54336. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54336
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54337. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54337
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54338. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54338
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54339. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54339
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54340. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54340
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)220.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54341. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54341
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)他のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54342. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54342
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54343. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54343
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54344. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54344
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54345. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54345
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)GB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54346. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54346
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54347. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54347
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)小傾角.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54348. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54348
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)小傾角.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54349. Ni-2Si, JMTR　controlled, 290℃, 4., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54349
範囲と内容

(試料)Ni-2Si. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (照射量)4.

(備考)dislocationある深い所.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54350. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54350
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54351. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54351
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54352. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54352
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54353. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54353
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54354. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54354
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54355. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54355
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54356. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54356
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54357. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54357
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54358. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54358
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54359. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54359
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54360. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54360
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54361. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54361
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54362. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54362
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED. (反射ベクトルg)100.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54363. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, LM., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54363
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (条件・倍率等)LM.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54364. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54364
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54365. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54365
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54366. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54366
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54367. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54367
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54368. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54368
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54369. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54369
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (ブラック条件からのずれs)s＞＞0.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54370. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54370
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54371. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54371
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54372. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54372
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54373. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54373
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54374. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54374
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54375. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54375
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54376. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54376
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54377. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54377
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

(備考)前のとなりのgrain.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54378. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54378
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54379. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, DF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54379
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)DF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54380. Ni-2Cu, A110, JMTR　controlled, 290℃, BF, 5.2K., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54380
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (試料番号)A110. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)5.2K.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54381. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54381
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54382. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, BF., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54382
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)BF.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54383. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃, ED., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54383
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-54384. Ni-2Cu, JMTR　controlled, 290℃., [1988年11月30日以降.]

 アイテム
資料番号: O-54384
範囲と内容

(試料)Ni-2Cu. (照射条件)JMTR　controlled. (照射温度)290℃.

(備考)反対のGB.

日付: [1988年11月30日以降.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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