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電子顕微鏡写真 Electron micrographs::Oシリーズ O series

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件名：ソース: Ku Peek Class

24989 コレクションおよび/またはレコード 表示:

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58531. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58531
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58532. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58532
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)100K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58533. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58533
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58534. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58534
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)21K.

(備考)他のgrain.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58535. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58535
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58536. Ni-0.3Si, N183, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58536
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

(備考)他のgrain.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58537. Ni-0.4Si, N183, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58537
範囲と内容

(試料)Ni-0.4Si. (試料番号)N183. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58538. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58538
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

(備考)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58539. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58539
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58540. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58540
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58541. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58541
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58542. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 21K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58542
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)21K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58543. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58543
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58544. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58544
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58545. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58545
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58546. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58546
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58547. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58547
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58548. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58548
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58549. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58549
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58550. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58550
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)220. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58551. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58551
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58552. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58552
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58553. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58553
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (反射ベクトルg)110.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58554. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58554
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58555. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58555
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58556. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58556
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58557. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58557
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58558. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58558
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58559. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58559
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58560. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58560
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58561. Ni-0.05Si, N173, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58561
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Si. (試料番号)N173. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58562. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58562
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58563. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58563
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58564. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58564
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58565. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58565
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58566. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58566
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58567. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58567
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58568. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, DF, 100K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58568
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)100K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58569. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58569
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58570. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58570
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)111. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58571. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58571
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58572. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58572
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58573. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58573
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58574. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 8K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58574
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)8K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58575. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 8K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58575
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)8K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58576. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58576
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)D.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58577. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58577
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58578. Ni-0.05Ge, N163, JMTR controlled, 400℃, ED., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58578
範囲と内容

(試料)Ni-0.05Ge. (試料番号)N163. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)ED. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

(備考)E.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58579. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, DF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58579
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (EM/D3)EM. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)DF. (条件・倍率等)11K. (反射ベクトルg)200. (ブラック条件からのずれs)s＝0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

[ネガフィルム, Oシリーズ] O-58580. Ni-0.3Ge, N213, JMTR controlled, 400℃, BF, 11K., [1989年8月30日.]

 アイテム
資料番号: O-58580
範囲と内容

(試料)Ni-0.3Ge. (試料番号)N213. (照射条件)JMTR controlled. (照射温度)400℃. (Dark, Bright, ED)BF. (条件・倍率等)11K. (ブラック条件からのずれs)s＞0.

日付: [1989年8月30日.]
見つかった位置: Kyoto University Research Resource Archive / 高エネルギー粒子照射材料透過電子顕微鏡写真, ca.1985-1997. Transmission Electron Microscopy Photographs of Materials irradiated by High-Energy Particle, ca.1985-1997. / 透過電子顕微鏡写真(ネガフィルム). / [写真] Oシリーズ.

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